詳細摘要: 8寸單片式清洗設備專為半導體晶圓制造設計,采用獨立腔體結構實現(xiàn)單片獨立處理,避免交叉污染。設備集成化學清洗(RCA工藝)、兆聲波空化、DIW噴淋及IPA干燥技術...
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-06-03 在線留言加工中心 車床 銑床 鉆床 鏜床 磨床 雕刻機 雕銑機 刨床 拉床 鋸床 齒輪加工機床 螺紋加工機床 復合切削機床 其它金屬切削機床
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詳細摘要: 8寸單片式清洗設備專為半導體晶圓制造設計,采用獨立腔體結構實現(xiàn)單片獨立處理,避免交叉污染。設備集成化學清洗(RCA工藝)、兆聲波空化、DIW噴淋及IPA干燥技術...
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-06-03 在線留言詳細摘要: 全自動FOUP清洗機專為半導體制造中的晶圓傳輸容器(FOUP/FOSB)設計,通過高精度清洗技術實現(xiàn)自動化去污與干燥,確保晶圓存儲環(huán)境的潔凈度。
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-06-03 在線留言詳細摘要: BOE硅片清洗機專為半導體、光伏及光學玻璃領域設計,通過化學腐蝕與物理清洗結合,高效去除硅片表面污染物(如氧化硼、顆粒、金屬殘留等)。設備支持自動化酸洗、水洗、...
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-06-03 在線留言詳細摘要: 12寸晶圓單片清洗機專為半導體制程設計,采用單片獨立清洗模式,避免交叉污染,確保晶圓表面潔凈度達納米級標準。設備支持多種化學藥液(如HF、H?O?等)與兆聲波聯(lián)...
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-06-03 在線留言詳細摘要: 晶圓片清洗設備專為半導體制程設計,集成化學濕法與超聲清洗技術,高效去除晶圓表面微粒、氧化物及殘留污染物。設備支持單片或批量清洗,兼容RCA標準工藝,配備高精度噴...
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-06-03 在線留言詳細摘要: 硅片清洗設備是半導體制造中的關鍵工藝設備,用于去除硅片表面的顆粒、有機物、金屬污染物及氧化層等雜質(zhì),確保芯片性能與良率。其核心原理包括物理清洗和化學清洗。設備類...
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-29 在線留言詳細摘要: 全自動RCA清洗設備是半導體、微電子等領域關鍵的清洗裝置?;赗CA清洗原理,能高效去除硅片等表面的有機物、顆粒及金屬污染物。集成自動化控制,可實現(xiàn)多道清洗工序...
產(chǎn)品型號:所在地:蘇州市更新時間:2025-05-29 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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